PVD CVD 真空薄膜沉积综合平台

1、应用领域
半导体薄膜沉积、钙钛矿太阳能电池、OLED、金属电极薄膜等产业研发和生产的**设备。


2、技术特点
•多腔室团簇分布，中心为传输室（TM），四周为工艺室(PM)和基板进出室，可在真空中循环完成各种**物、化合物薄膜和电极薄膜的沉积。